トポケミカル法を用いたLa0.6Sr0.4CoO3−δへのフッ素ドープ法に関する論文がElectrochemistry誌に公開されました。（オープンアクセス）

トポケミカル法を用いたLa0.6Sr0.4CoO3−δへのフッ素ドープ法に関する論文がElectrochemistry誌に公開されました。オープンアクセスですので、どなたでも論文を読んでいただけます。論文はこちらから読めます。

Journal: Electrochemistry
Title: Effects of Reaction Conditions on Topochemical F-doping to La_0.6Sr_0.4CoO_3−δ Thin Films
Authors: Takuya KATSUMATA*, Chayathorn LAWTHAWEESAWAT, Mahunnop FAKKAO, Yuta KIMURA, Takashi NAKAMURA, Koji AMEZAWA